Fuzhou Sunout Energy&Material Technology Co.,Ltd.
硅靶材專用硅粉
濺射靶材是指通過真空鍍膜設備濺射沉積在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。根據(jù)生產(chǎn)方法可以分為粉末靶、熔煉靶和噴涂靶；按照形狀可以分為平面靶材和管狀靶材。高純硅作為粉末靶和噴涂硅靶材的原料，其純度越高越有助于靶材獲得均勻的晶體結構保證靶材的性能，同時提高硅原料利用率。
硅含量：百分之99.9-百分之99.999（3-5N）
粒度：0-3000目
Copyright 2014-2025 福州勝澳能源材料科技有限公司 All rights reserved 閩ICP備2021004829號-1
本網(wǎng)站所用文字圖片部分來源于公共網(wǎng)絡或者素材網(wǎng)站，凡圖文未署名者均為原始狀況，但作者發(fā)現(xiàn)后可告知認領，我們?nèi)詴皶r署名或依照作者本人意愿處理，如未及時聯(lián)系本站，本網(wǎng)站不承擔任何責任。
